SEMICONDUCTOR
QUID SEMICONDUCTOR?
Semiconductor fabrica electronic est pars quae utitur conductione electrica, sed lineamenta habet inter conductoris, exempli gratia aeris et insulatoris, ut vitrum.Hae machinis electricam conductionem utuntur in solido statu, quod opponitur in statu gaseoso vel emissione thermionica in vacuo, et tubulas vacui in applicationibus recentissimis reposuerunt.
Frequentissimus usus semiconductorum est in ambitu astularum integrato.Nostra moderna machinis computandi, inclusa telephoniis et tabulis mobilibus, billions ex minimis semiconductoribus iunctis continere poterat omnia ramenta singula in unum laganum semiconductorem connexum.
Conductio semiconductoris pluribus modis tractari potest, ut inducendo campum electricum vel magneticum, eam luci vel calori exponendo, vel ex mechanica deformatione craticulae monocrystallini siliconis dopedalis.Dum explicatio technica satis explicata est, manipulatio semiconductorum est quae in nostra revolutione digitali currenti fieri potest.
Quomodo aluminium adhibetur in semiconductoribus?
Aluminium multas proprietates habet, quae in semiconductoribus et microchipibus uti possunt primariam electionem.Exempli gratia, aluminium superiorem adhaesionem habet dioxidi Pii, maiorem partem semiconductorum (hoc est ubi Vallis Silicon nomen accepit).Proprietates electricae eius, nempe quod humilis electricae resistentiae habet et ad optimas coniunctiones cum ligamentis filum facit, aliud beneficium aluminii sunt.Etiam magni momenti est quod facile est aluminium fabricare in processibus ethicis siccis, gradum crucialem in semiconductoribus faciendis.Cum alia metalla, ut aes et argentum, melius corrosioni praebent resistentiam et duritiem electricam, multo etiam cariora sunt quam aluminium.
Una applicationes aluminii in fabricandis semiconductoribus maxime procreatus est in processu putris technicae artis.Tenuis stratio nano crassitudinum metallorum altae puritatis et pii in lagana microprocessoris efficitur per processum depositionis vaporis physici, ut putris.Materia e scopo eiicitur et in strato Pii in vacuo conclavi substrato deposito, quod gas repletum est, ad faciliorem processum adiuvandum;solet iners felis ut argon.
Laminae fautoriae pro his scutis aluminii fiunt cum materia puritatis altae depositionis, ut tantalum, cuprum, titanium, tungstenum vel 99,9999% purum aluminium, cum earum superficiei religatum.Photoelectrica vel chemica etingificatio superficiei conductivae subiectae exemplaria microscopica circumductio adhibita in functione semiconductoris creat.
Frequentissimum aluminii stannum in processus semiconductoris est 6061. Ad optimam offensionis observantiam, plerumque stratum anodizatum tutela applicandum erit superficiei metalli, quod resistentiam corrosionis movebit.
Quia tales sunt accuratae cogitationes, corrosio et alia problemata arcte viverra debent.Plures factores inventae sunt ad corrosionem in machinis semiconductoribus contribuere, verbi gratia in materia plastica stipendii.