Производството на полупроводници изисква изключителна прецизност, а камерата – сърцето на критично оборудване като CVD реактори и машини за ецване – играе ключова роля. Това ръководство разглежда основните аспекти на проектирането на камерите и как алуминиевите сплави с висока чистота решават ключови предизвикателства в индустрията.

5 критични фактора, влияещи върху производителността на камерата (и как алуминият се справя отлично)

1. Съвместимост с ултрависок вакуум (UHV) и предотвратяване на течове

Проблем: Микроскопските течове нарушават целостта на процеса.

Предимство на алуминия:Безшевни корпуси, обработени с CNC машинаот алуминиеви заготовки елиминират точките на заваряване. Нашата сплав 6061-T6 постига скорости на изтичане на хелий < 10⁻⁹ mbar·L/sec.

2. Термично управление: Стабилност при екстремни цикли

Проблем: Термичното деформиране причинява замърсяване с частици.

Решение: Превъзходната топлопроводимост на алуминия (≈150 W/m·K) превъзхожда тази на неръждаемата стомана. Нашите изработени по поръчка алуминиеви плочи включват охлаждащи канали за равномерност от ±0,5°C.

3. Устойчивост на плазмена корозия в тежки условия

Данни: Анодизираният алуминий (с дебелина 25μm+) издържа 10 пъти по-дълго на излагане на CF₄/O₂ плазма в сравнение с необработени повърхности.

4. Магнитна пропускливост: Интегритет на RF/плазмените процеси

Защо алуминий? Почти нулевата магнитна пропускливост предотвратява изкривяване на полето в ецващите/имплантиращите машини.

5. Оптимизация на разходите спрямо производителността

Казус: Подмяна на обработена неръждаема стоманакамери с алуминийнамалява разходите за материали с 40% и времето за обработка с 35% (въз основа на индустриалните показатели за 2024 г.).

Нашите алуминиеви решения за прецизни камери

Корпуси и капаци на камери

Материал: Алуминиеви плочи 5083/6061 (с дебелина до 150 мм)

Процес: Вакуумно-съвместима CNC обработка с повърхностно покритие Ra ≤ 0.8μm

Основни характеристики: Термична обработка AMS 2772, 100% ултразвуково изпитване

Компоненти за разпределение на газ

Продукти: Прецизни алуминиеви тръби (външен диаметър 3 мм - 200 мм) с вътрешни микроотвори

Технология: Дълбоко пробиване (съотношение L/D 30:1), електрополиране

Структурни опори и крепежни елементи

Материал: Алуминиеви пръти 7075-T651 (високо съотношение якост-тегло)

Съответствие: Стандарти SEMI F72 за контрол на отделянето на газове

Защо да си партнирате с нас за вашия проект за полупроводникова камера?

1. Специализирана обработка в чисти помещения: Съоръжението клас 1000 предотвратява замърсяване с частици.

2. Проследимост на материалите: Протоколи от изпитвания на мелници завсяка алуминиева плоча/прът/тръба.

3. Плазмено-оптимизирана обработка: Патентована пасивация за устойчивост на корозия.

4. Бързо прототипиране: 15-дневен срок за изпълнение на сложни геометрии на камери.